cymwysiadau eraill o nitrid silicon

Mae gan ddeunyddiau ceramig nitrid silicon briodweddau rhagorol megis sefydlogrwydd thermol uchel, ymwrthedd ocsideiddio a chywirdeb dimensiwn uchel. Oherwydd bod nitrid silicon yn gyfansawdd cofalent â chryfder bond uchel a gall ffurfio ffilm amddiffynnol ocsid mewn aer, mae ganddo hefyd sefydlogrwydd cemegol da. Ni fydd yn ocsideiddio ar dymheredd is na 1200 gradd, a gall y ffilm amddiffynnol a ffurfiwyd ar 1200 ~ 1600 gradd atal ocsidiad pellach. Ni fydd yn treiddio i fetelau tawdd nac aloion fel alwminiwm, plwm, tun, arian, pres a nicel, ond gall gyrydu mewn hylifau tawdd fel magnesiwm, aloi crome nicel a dur di-staen.

Gellir defnyddio deunyddiau ceramig nitrid silicon i wneud rhannau peirianneg tymheredd uchel, deunyddiau gwrthsafol uwch yn y diwydiant metelegol, rhannau sy'n gwrthsefyll cyrydiad ac elfennau selio yn y diwydiant cemegol, a chyllyll ac offer torri mewn peirianneg fecanyddol.

Gan y gall nitrid silicon ffurfio bond cryf â charbid silicon, alwmina, thorium deuocsid, boron nitrid, ac ati, gellir ei ddefnyddio fel deunydd rhwymwr a'i addasu mewn cymarebau amrywiol.

Yn ogystal, gellir defnyddio silicon nitrid mewn celloedd solar. Ar ôl i'r ffilm nitrid silicon gael ei hadneuo gan PECVD, nid yn unig y gellir ei ddefnyddio fel ffilm gwrth-adlewyrchol i leihau adlewyrchiad golau digwyddiad, ond hefyd yn ystod proses dyddodiad y ffilm nitrid silicon, mae atomau hydrogen o'r cynnyrch adwaith yn mynd i mewn i'r ffilm nitrid silicon ac ar y wafer silicon, gan chwarae rôl passivator diffyg. Nid yw'r gymhareb atomau nitrogen mewn nitrid silicon yma yn hollol 4:3, ond mae'n amrywio o fewn ystod benodol yn dibynnu ar amodau proses amrywiol. Mae priodweddau ffisegol y ffilm sy'n cyfateb i wahanol gymarebau atomig yn wahanol. Fe'i defnyddir ar gyfer tyrbinau nwy tymheredd uchel iawn, peiriannau awyrennau, ffwrneisi trydan, ac ati.